SJ 20640-1997 红外探测器用锑化铟单晶片规范
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ID： |
6779E2A147764CAEA743D559021BEA88 |
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文件大小(MB)： |
0.62 |
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页数： |
10 |
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日期： |
2024-7-27 |
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SJ,中华人民共和国电子行业军用标准,FL 5971 SJ 20640-97,红外探测器用锌化锢单晶片规范,Specification for indium antimonide single,crystal slices for use in infrared detector,1997R6/7 发布1997-10-01 实施,中华人民共和国电子工业部批准,ww. bzfxw. com 下载,中华人民共和国电子行业军用标准,红外探测器用锌化锢单晶片规范 SJ 20640-97,Specification for indium antimonide single,crystal slices for use in infrared detector,范围,1.I 主题内容,本规范规定了军用光伏型红外探测器用睇化锢单晶片的要求,质量保证规定,交货准备及,有关规则,1.2 适用范围,本规范适用于军用光伏型红外探测器用掺喷按(211)晶面生长的锚化锢单晶片,1.3 产品型号,产品型号按GB 11296-89《红外探测材料型号命名方法》的规定为IS4,2引用文件,GB 3505—83,GB 11296—89,GB 11297.6—89,GB 11297.7—89,GJB 179-86,GJB 1209-91,ZBN 30003—88,表面粗糙度术语、表面及其参数,红外探测材料型号命名方法,锌化锢单晶位错蚀坑的腐蚀显示及测量方法,锦化锢单晶电阻率及霍尔系数的测试方法,计数抽样检査程序及表,微电路生产线认证用试验方法和程序,光学零件包装,3要求,3.I 合格鉴定,按本规范提交的产品应是经鉴定合格或定型批准的产品,3.2 特性,3.2.1 短轴尺寸,短轴:225mm,3.2.2 晶面与定向,a.晶面为(111),定向精度±1°;,b.定向偏差〈111〉&±1ゝ,3.2.3 位错腐蚀坑密度,中华人民共和国电子工业部1997-06-17发布1997-10-01 实施,—1 —,SJ 20640-97,EPD< 100 个/cn?,3.2.4 A和B原子面,a.晶面(lll)A原子面为锢面;,b.晶面(lll)B原子面为镭面,3.2.5 导电类型,晶片在77K时为N型,3.2.6 载流子的浓度("),77K 时,"=3 X 1014~2 X 1015cm-3o,3.2.7 霍尔迁移率(内),77K 时,2>1.0*105加2八",3.2.8 表面粗糙度(Ra),a. (lll)A 面:Ra40. l#m;,b. (lll)B 面:Ra45pn,3.2.9 抛光片厚度与表面质量,a.抛光片厚度510±25〃m,b,与亮点参考样品图比较符合第三等以上的要求,4质立保证规定,4.1 检验责任,除合同或订单中另有规定外,承制方应负责完成本规范规定的所有检验。必要时,订购方,或上级鉴定机构有权对本规范所述的任一检验项目进行检査,4.1.1 合格责任,所有产品必须符合本规范第3章和第5章的所有要求。本规范中规定的检验应成为承制,方整个检验体系或质量大纲的ー个组成部分。若合同中包括本标准未规定的检验要求。承制,方还应保证所提交验收的产品符合合同要求。质量一致性检验不允许提交明知有缺陷的产,品,也不能要求订购方接收有缺陷的产品,4.2 检验分类,本规范规定的检验分为:,a.鉴定检验;,b.质量一致性检验,4.3 检验条件,除另有规定外,应按下列环境条件进行各种检验:,环境温度:15.35C;,相对湿度:45%.75 %；,大气压カ:86~106kPao,4.4 鉴定检验,鉴定检验在产品投产前进行,当原材料或制造工艺发生重大变化,有可能影响鉴定检验结,果时,也应进行鉴定检验,4.4.I 检验地点,鉴定检验应在有关主管部门认可的试验室进行,—2 —,下载,SJ 20640-97,4.4.2 检验样品,样品应为生产中通常使用的设备和工艺制造的产品,鉴定检验的样品应从提交的鉴定检,验样品总数中随机抽取,4.4.3 检验,鉴定检验的项目、检验顺序、受试样品数量及不合格品数应按表1的规定,表1鉴定检验,检验项目要求的章条号检验方法章条号受试样品数量允许不合格品数,短轴尺寸3.2.1 4.7.1,5 0,晶面与定向3.2.2 4.7.2,导电类型3.2.5 4.7.5,载流子浓度3.2.6 4.7.6,霍耳迁移率327 4.7.7,位错腐蚀坑密度3.2.3 4.7.3,A和B原子面324 4.7.4,表面粗糙度3.2.8 4.7.8,抛光片厚度与表面质量3.2.9 4.7.1,4.7.9,4.4.4 不合格判定,若受试样品通过表1中列举的各项检査或检验,则鉴定检验合格;若其中一项或ー项以上,检验超过表1规定的允许不合格品数,则不授予鉴定合格资格,4.4.5 鉴定合格资格的保持,鉴定合格资格是通过质量一致性检验来保持,根据需要,应由承制方每年一次向上级鉴定,机构提交质量一致性检验记录的副本,4.5 质量一致性检验,4.5.1 检验批的组成,检验批应由相同设备和相同工艺生产的按［211］方向生长、按(111)晶面定向,晶面偏差应,等于或小于土 1°的单晶,按第3.2.1条的要求切割的单晶片组成,4.5.2 A组检验,4.5.2.1 抽样方案,质量一致性检验的A组检验按GJB 179, 一般检验水平H ,可接收质量水平2.5, 一次正,常抽样方案。序号3、4抽取样品量的1/3进行检验,其余序号1、2、5、6、7、8抽取样品量的2/3,进行检验,4.5.2.2 检验项目,A组检验项目按表2规定进行,3,SJ 20640-97,走ノ……
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